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F、Nb共掺杂高导电SnO2薄膜的研制
类别:建筑玻璃与工业玻璃杂志  日期:2023-8-23  来源:  点击率:960  打印 关闭
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FNb共掺杂高导电SnO2薄膜的研制

 

史国华,刘起英

(中国玻璃控股有限公司,威海中新材料技术研发有限公司,威海 264205

摘要:SnO2薄膜是重要的透明电极材料,其导电性能主要取决于掺杂方式和制备工艺。由于传统的掺杂工艺及单元素掺杂对薄膜光电性能的改善遇到瓶颈,实施多元共掺杂,利用元素之间的协同增强作用,成为进一步提升薄膜光电性能的重要手段。首先通过第一性原理对薄膜结构参数和电学性能进行计算,分析了FNb共掺杂的可行性与合理性,并用常压化学气相沉积(APCVD)技术,模拟浮法玻璃在线镀膜工艺,沉积了FNb共掺杂的SnO2薄膜,对其导电性能有明显提升,电阻率可降至3.6×10-4Ω·cm。通过微结构与形貌分析,研究了薄膜生长与光电性能的物理机制。适量的Nb掺杂,可以改善薄膜的结晶性能,薄膜更倾向于(200)结晶取向。

 

该篇文章刊登在《建筑玻璃与工业玻璃》2023年第5

 



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