摘要：本文介绍了磁控溅射镀膜工艺、磁控溅射设备、非反应溅射与反应溅射。反应溅射是一个非常复杂的过程。重点对反应溅射中的“直流氧化溅射” “阳极消失效应”“靶材中毒现象” “磁滞效应现象”“金属模式”“过渡模式”“反应模式”“反应溅射磁滞效应特征曲线”进行分析。在生产过程中，掌握反应溅射工艺的特点，合理控制溅射过程中的工艺参数，准确判断溅射工艺中的异常现象，利用有效的手段进行调整，才能达到高效的溅射速率以及高质量的膜层性能，防止不良溅射现象的出现。

该篇文章刊登在《建筑玻璃与工业玻璃》2019年第3期