摘 要：本文介绍了一种低羟基石英玻璃的制备工艺——高频等离子外沉积工艺。该工艺以高频等离子体为热源，生产过程中不会引入外界水分，制备的石英玻璃羟基可达到<1ppm，适用于光纤通信领域对低羟基石英材料的要求。
关键词：石英玻璃 羟基 等离子
该篇文章刊登在《建筑玻璃与工业玻璃》2014年第9期