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总投资35亿元,清溢光电佛山掩膜版生产基地项目开工
类别:电子玻璃  日期:2024-3-19  来源:清溢光电  点击率:4416  打印 关闭

 

3月18日上午,深圳清溢光电股份有限公司(以下简称:清溢光电)佛山生产基地项目举行了开工仪式。

 

2023年12月15日,清溢光电与广东省佛山市南海区人民政府签署合作协议,投资建设佛山生产基地项目,该项目包括高精度掩膜版生产基地建设项目及高端半导体掩膜版生产基地建设项目,合计拟投资人民币35亿元。高精度掩膜版生产基地建设项目将分三期进行建设,合计拟投资人民币20亿元,其中一期拟投资8亿元;二期拟投资3亿元,三期拟投资9亿元。高端半导体掩膜版生产基地建设项目将分三期建设,合计拟投资人民币15亿元,其中一期拟投资6.05亿元,二期拟投资2.95亿元,三期拟投资6亿元。

 

清溢光电自1997年创立以来一直专注于掩膜版的研发、设计、生产和销售业务,是中国本土领先的以研发、生产、销售平板显示和半导体掩膜版为主营的掩膜版企业,同时也是中国最大的平板显示掩膜版企业之一。

 

在平板显示行业掩膜版领域,清溢光电产品多次填补了国内行业空白,打破了国外厂商的垄断,为平板显示行业做出了重要贡献。根据全球专业的科技调研机构Omdia的统计信息,在2022年全球平板显示掩膜版企业销售金额排名中,清溢光电位列全球第五。目前清溢光电平板显示掩膜版业务已实现8.6代高精度TFT掩膜版及6代中高精度AMOLED/LTPS掩膜版的量产。高精度掩膜版生产基地建设项目主要生产8.6代及以下高精度掩膜版,应用于a-Si、LTPS、AMOLED、LTPO、MicroLED等平板显示掩膜版产品。项目建成投产后,将提高公司平板显示掩膜版产能,提升高精度平板显示掩膜版国产化程度及配套水平,填补国内产业空白。

 

在半导体芯片掩膜版领域,清溢光电已实现180nm工艺节点半导体芯片掩膜版的量产,已实现150nm工艺节点半导体芯片掩膜版的客户测试认证,正在推进130nm-65nm的PSM和OPC工艺的掩膜版开发和28nm半导体芯片所需的掩膜版工艺开发规划,主要工艺技术已处于国内同行业领先水平。高端半导体掩膜版生产基地建设项目主要产品为覆盖250nm-65nm制程的高端半导体掩膜版,可提高公司半导体掩膜版产品的技术能力和产能,优化公司半导体掩膜版的产品结构,提升技术和工艺水平,提升公司在半导体掩膜版市场占有率。

 

清溢光电佛山生产基地项目将进一步巩固清溢光电在掩膜版领域的领先地位,提升我国平板显示和半导体产业链的竞争力。

 



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