公开（公告）号：CN112608009A

公开（公告）日：2021.04.06

申请（专利权）人：成都中光电科技有限公司；东旭集团有限公司

本发明公开一种TFTLCD液晶玻璃窑炉氮氧化物的控制方法，具体包括减少窑炉中氮气的引入，具体过程：控制置于液晶玻璃窑炉两侧上的第四对烧枪在正常生产时通入氧气对第四对烧枪进行冷却或者在窑炉过完大火后正常生产前，拆除第四对烧枪，然后用耐火材料将第四对烧枪口封住，以及选用热值高的工业用天然气作为燃料，改变置于液晶玻璃窑炉端部烟道上的烟气冷却方法，以及控制液晶玻璃窑炉中氧气和天然气比例为2.12.4:1等手段大幅度的降低窑炉氮氧化物的排放；不仅满足待实施的国家新的环保排放标准，且不需要对硬件设备进行大的改造，就能达到环保排放要求，具有较好的经济和社会价值。