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在玻璃基板上沉积二氧化硅涂层的化学气相沉积工艺
类别：玻璃专利  日期：2017-1-3  来源：  点击率：11868  打印 关闭

公开（公告）号：CN104136656B
公开（公告）日：2016.11.09
申请（专利权）人：皮尔金顿集团有限公司 

    本发明提供用于沉积二氧化硅涂层的CVD工艺。该工艺包括提供玻璃基板。该工艺还包括形成气态混合物，该气态混合物包括硅烷化合物、氧、含氟化合物和诸如乙烯或丙烯的自由基清除剂。将气态混合物朝向并沿着玻璃基板引导且使得气态混合物在玻璃基板的上方反应以便在其上形成二氧化硅涂层。


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