申请号：CN201580065046.4
申请日：2015.11.23
公开（公告）号：CN107001119A
公开（公告）日：2017.08.01
申请（专利权）人：法国圣戈班玻璃厂

    本发明涉及制备用于发光器件的层压基板的方法，所述方法包含下列相继步骤：(a)提供具有1.45至1.65的在550 nm下的折射率的玻璃基板(1)，(b)将包含至少30重量％的Bi2O3并具有至少1.7的在550 nm下的折射率的玻璃釉料(3)涂布到所述玻璃基板(1)上，(c)在高于所述玻璃釉料的Littleton温度的温度下烧制所得釉料涂布的玻璃基板，由此形成第一高折射率釉质层(4)，(d)将金属氧化物层(2)涂布到所述第一高折射率釉质层上，(e)在530℃至620℃的高于所述玻璃釉料的Littleton温度的温度下烧制所得涂布的玻璃基板，由此使所述金属氧化物(2)与下方的第一高折射率釉质层(4)反应并形成具有嵌在与空气的界面附近的第二高折射率釉质层(5)上部的多个球形空隙(6)的第二高折射率釉质层(5)，和任选地(f)在第二高折射率釉质层(5)上涂布透明导电层（TCL）(8)。