申请号：CN201510014091.9申请日：2015.01.12公开（公告）号：CN104611675B公开（公告）日：2017.09.26申请（专利权）人：宜昌南玻显示器件有限公司 本发明涉及一种磁控溅射镀膜设备及ITO玻璃的制备方法。该磁控溅射镀膜设备包括依次相连的镀膜腔室、第一过渡室、第二过渡室、缓冲室和出口锁定室，所述第一过渡室、第二过渡室、缓冲室和出口锁定室中均设置有加热器。在镀膜腔室中镀制ITO薄膜后，镀好ITO薄膜的玻璃基板依次通过第一过渡室、第二过渡室、缓冲室和出口锁定室进行逐渐冷却，以释放ITO薄膜的内应力，降低ITO薄膜的硬度，制备柔韧性较高的ITO玻璃。