摘 要:本文以浮法在线化学气相沉积法制备的掺杂F的SnO2(FTO)低辐射薄膜为研究对象,在钢化炉中进行后期高温处理,采用X射线衍射仪、紫外-可见分光光度计和综合物理性能测试系统(PPMS)研究了其结构、形貌、光电性质的温度效应。通过X光电子能谱分析了薄膜中元素的分布情况,探讨了薄膜电学性能的恶化机理。研究结果表明,FTO薄膜的主要组成为非化学计量比的SnO2-x:F(x≈0.8~0.9),是金红石结构多晶SnO2,以(200)晶面为最明显的择优取向。FTO低辐射薄膜的高温热稳定性良好,最高耐热温度为720℃,当超过此条件时,光电性能恶化。随钢化温度的升高,薄膜表层氧的相对含量逐渐降低,FTO和SiOxCy阻挡层之间的界面扩散层中Si-O键相对含量逐渐增加,这一变化趋势与电阻率的升高一致。薄膜内部[O]/[Sn]比受高温钢化的影响较小,对导电性恶化的贡献较小。
该篇文章刊登在《建筑玻璃与工业玻璃》2016年第7期