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一种高透低辐射自清洁镀膜玻璃
类别:玻璃专利  日期:2016-12-5  来源:  点击率:12660  打印 关闭

 
公开(公告)号:CN205635374U
公开(公告)日:2016.10.12
申请(专利权)人:河北物华天宝镀膜科技有限公司 

    一种高透低辐射自清洁镀膜玻璃,包括玻璃基板,在玻璃基板上依次溅射沉淀第一SiAl基膜层、第一AZO膜层、第一NiCr阻挡层、Ag层、第二NiCr阻挡层、第二AZO膜层、第二SiAl膜层、
稀土TiO2复合膜层;所述玻璃基板为超白浮法玻璃基板;所述第一SiAl层的厚度为50~100nm,所述第一AZO膜层的厚度为10~30nm,所述第一NiCr阻挡层的厚度为3~10nm,所述Ag层的厚度为3~9nm,所述第二NiCr阻挡层的厚度为3~10nm、所述第二AZO膜层的厚度为10~30nm、所述第二SiAl膜层的厚度为厚度为50~100nm,所述稀土TiO2复合膜层的厚度为15~200nm。本实用新型的积极效果是:本装置解决了普通自清洁玻璃的透过率低、反射率高以及增透自清洁玻璃红外透过率高,不够节能环保的问题。



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