公开（公告）号：CN101508523B
公开（公告）日：2014.12.10
申请（专利权）人：成都光明光电股份有限公司

    本发明提供一种适于低温型离子交换工艺、易熔制的氧化锂氧化铝氧化硅玻璃，适于化学钢化，其重量百分比组成为：SiO2：55～61.5％、Al2O3：5～13％、Na2O：13～20％、K2O：3.5～8％、ZnO：0～5％、MgO：0～8％、Li2O：0.5～5％、Sb2O3：0～1.5％。本发明通过组分合理设定，降低了玻璃制造难度，玻璃熔制温度明显降低，有利于降低能耗和提高产品的成品率；所得到的玻璃在钢化温度380～500℃、钢化时间4～12小时的条件下，表面压应力可达到340～700MPa，应力层深度可达到20～60μm，玻璃被增强，抗冲击性能好。



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