公开(公告)号:CN204824614U公开(公告)日:2015.12.02申请(专利权)人:中山市格兰特实业有限公司 本实用新型公开了一种可调节挡板缝隙宽度的磁控溅射玻璃镀膜装置,包括底架,底架上架设有用于移转玻璃的输送装置,其技术方案的要点是:底架上还设有用于在真空状态下对玻璃表面进行连续镀膜的磁控溅射镀膜机构,磁控溅射镀膜机构包括架设在输送装置上的溅射底架,溅射底架上设有溅射靶材,溅射底架上位于溅射靶材和输送装置之间设有溅射范围控制装置,溅射范围控制装置包括能通过调节溅射缝隙宽度控制溅射靶材溅射到玻璃上的镀膜厚度的第一活动挡板。本实用新型提供一种可调节挡板缝隙宽度的磁控溅射玻璃镀膜装置,利用溅射范围控制装置,来调整溅射靶材下部的溅射缝隙宽度,使得单一生产线能满足多种规格镀膜玻璃生产。