公开（公告）号：CN204211647U
公开（公告）日：2015.03.18
申请（专利权）人：中国建材国际工程集团有限公司

    一种高透过率可钢化低辐射镀膜玻璃的制备装置，包括氧化钛介电层形成单元，其镀制氧化钛介电层；氮化硅介电层形成单元，其镀制氮化硅介电层；氧化锌介电层形成单元，其镀制氧化锌介电层；镍铬金属合金层形成单元，其镀制镍铬金属合金层；银功能层形成单元，其镀制银功能层；镍铬金属合金层形成单元，其镀制镍铬金属合金层；氧化锌锡介电层形成单元，其镀制氧化锌锡介电层；及氮化硅介电层形成单元，其镀制氮化硅介电层。所述制备装置在玻璃基板上依次镀制氧化钛介电层，氮化硅介电层，氧化锌介电层，镍铬金属合金层，银功能层，镍铬金属合金层，氧化锌锡介电层和氮化硅介电层。