摘  要：本文主要讨论了采用光谱法提取低辐射玻璃膜层介质材料SixNy和ZnAlOx光学常数。在北玻SE2540离线磁控溅射镀膜生产线上，以6mm白玻为基片，制备SixNy和ZnAlOx单层膜样片。使用紫外-可见分光光度计lambda950测得样片380～2500nm波长范围内的光谱数据；使用XP-200台阶仪测得膜层的实际厚度。使用code软件构建材料模型和膜系结构，以光谱法拟合提取材料的光学常数，并同时得到膜层的厚度。两个样片的拟合膜厚值与实测膜厚值误差分别为5.28％、0.22％，均小于6％，从而验证了所提取光学常数的准确性。

关键词：光谱法  低辐射玻璃  磁控溅射镀膜  光学常数  膜厚

该篇文章刊登在《建筑玻璃与工业玻璃》2014年第9期