<申请号>201010107683.2

<申请人>洛阳新晶润工程玻璃有限公司

    本发明公开了一种提高低辐射镀膜玻璃生产效率的方法，在低辐射镀膜玻璃生产时，在镀膜室分别充入氮气和氩气，使总气体流量为0.5～2升/分钟，其中氮气占总量的40％～90％，氩气占总量的10％～60％，硅靶送电，开始溅射，玻璃从硅靶下通过，氮化硅就沉积在玻璃表面，形成氮化硅膜层。沉积同样厚度的氮化硅膜层，在低辐射镀膜玻璃生产线硬件不变的条件下，溅射沉积其它膜层参数不变的前提下，采用本发明可以降低硅靶的溅射功率1.2倍，节约电能;在溅射沉积所有膜层参数不变的前提下，采用本发明可以减少一半的硅靶装置及配套的溅射电源，节约设备投资。