<申请号>201010137790.X

<申请人>洛阳新晶润工程玻璃有限公司

    本发明公开了一种提高锡基低辐射镀膜玻璃生产效率的方法，在锡基低辐射镀膜玻璃生产时，在镀膜室分别充入氧气和氩气，使总气体流量为0.5-2升/分钟，其中氧气占总量的60％-95％，氩气占总量的5％-40％，锡靶送电，开始溅射，玻璃从锡靶下通过，氧化锡就沉积在玻璃表面，形成氧化锡膜层。沉积同样厚度的氧化锡膜层，在低辐射镀膜玻璃生产线硬件不变的条件下，溅射沉积其它膜层参数不变的前提下，采用本发明可以降低锡靶的溅射功率约1倍，节约电能;在溅射沉积所有膜层参数不变的前提下，采用本发明可以减少约一半的锡靶装置及配套的溅射电源，节约设备投资。