<申请号>200910187392.6

<申请人>中国科学院金属研究所

    本发明涉及玻璃镀膜靶材制备领域，具体为一种玻璃镀膜靶材及其制备方法，解决磁控溅射玻璃镀膜靶材制备问题。该玻璃镀膜靶材采用的原材料为SiAl粉末，由纯Si粉和纯Al粉机械混合制得，混合粉末中各组元质量百分比及粒度为:Si粉85-95wt％，粒度45-125μm;Al粉5-15wt％，粒度30-100μm。该玻璃镀膜靶材采用常压等离子喷涂技术制备，制备工艺参数为:电流400-500A，电压45-58V，送粉量40-60g/min，送粉气流量5.0-7.0L/min，主气流量41-43L/min，主气压力0.45-0.55MPa，次气流量1.6-2.8L/min，次气压力0.25-0.35MPa，喷涂距离100-150mm，喷涂角度75-90°。采用本发明制备的溅射阴极靶材可适用于镀膜玻璃的生产，具有重要的工业应用价值。