<申请号>200820215301.6

<申请人>苏州新爱可镀膜设备有限公司

        本实用新型公开了一种镀膜材料溅射均匀和靶材利用率高的镀膜用旋转溅射阴极装置，包括:通过一对支承座活动支承在机架中的阴极圆管及安装在阴极圆管上的圆管状靶材;在阴极圆管内部还绝缘支承有中心支承管和磁芯元件;中心支承管与绝缘套、支承座及阴极圆管之间构成一个密闭的空腔，绝缘套内壁上设置有密封凸块与中心支承管密封接触，位于密封凸块外侧的中心支承管的端部设置有通孔，中心支承管的内腔通过该通孔及绝缘套上的通孔与安装在机架上的进水管相通，密封凸块另一侧的空腔通过绝缘套上的出水通孔与安装在机架上的出水管相通，在中心支承管内腔通过的另一端的出水孔与空腔相通。本实用新型可应用于真空镀膜玻璃的生产设备中。