摘    要：用磁控溅射方法在玻璃基片上制备了TiN及Ti/TiN薄膜，研究了氮气与氩气流量比、沉积时间、靶功率和基片台温度对TiN及Ti/TiN薄膜显微硬度的影响，用XRD对薄膜的物相进行了分析，用SEM观察了薄膜的表面形貌，制备出了显微硬度/HV为1097.433的Ti/TiN薄膜。讨论了Ti/TiN薄膜显微硬度提高机理。

关键词：磁控溅射  TiN薄膜  Ti/TiN薄膜  显微硬度 


（该篇文章刊登在《建筑玻璃与工业玻璃》2013年第7期)