<申请号>200810032168

        <申请人>湖南大学

        一种等离子增强的感应蒸发硅薄膜沉积方法，是在真空环境下，感应加热高纯硅原料，产生的硅蒸汽经氢等离子体离化，并沉积于衬底，在所述感应加热装置和衬底之间，设置有电感耦合或者电容耦合等离子体发生装置。本发明工艺方法简单、操作方便、生产成本低、可以在玻璃、塑料、金属薄片等衬底上实现高质量硅薄膜的快速沉积、缺陷钝化、掺杂和微晶化，配以相应的衬底自动更换或者柔性衬底卷绕设备，即可实现连续化沉积，实现工业化生产，可替代现有硅薄膜沉积工艺。

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